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    ITO激光刻蝕技術講解

    發(fā)布時間:2018-07-02 來源:元祿光電

    ITO薄膜是指銦錫氧化物的半導體透明導電薄膜,通常在將ITO薄膜鍍在有機薄膜PET、玻璃和硬性塑料基板上,厚度只有幾千埃(300-500nm)。在這些材料商鍍銦錫氧化物的電阻率極低、可見光高透過率以及紫外光高發(fā)射率的優(yōu)質特性,被廣泛應用到消費電子領域的觸摸屏行業(yè)中。

     

    鍍有ITO薄膜的基材刻線后由上下層線路組合,各自布線X軸與Y軸,兩層線路中間由極小的絕緣點作為隔層,經組裝貼合后,對上方導電膜施以壓力,造成上下X軸與Y軸短路,因而改變其電壓值且產生信號,再經由控制器計算受壓之處相對坐標位置,此便是ITO觸摸屏的使用。

     

    那么如何在這種ITO薄膜上進行加工刻線呢?傳統(tǒng)的ITO刻線采用的是化學試劑刻蝕,這種方法逐漸被淘汰,主要是其廢品率高,成本高。慢慢開始偏向于成本低、無污染、易操作、良品率高的激光刻蝕技術。

     

    激光刻蝕的原理是通過調節(jié)高能激光束的焦點位置,使直接作用于ITO薄膜層,使得ITO層瞬間氣化,從而達到蝕刻的效果,同時由于激光能量的可調性質,這就使得在加工過程中不會對底部的襯底材料造成影響。這種方式相比較于化學試劑刻蝕體積更加小巧、易操作、成本低、良品率高。

     

    通過電腦軟件控制,導入繪制好的ITO線路層的圖形即繪制激光蝕刻圖檔,上料后,調整好參數,即可對其進行加工,并對其進行檢測,保存好設置的參數,即可進行批量加工,同批次的產品無需再次調整參數既可實現批量的生產,大大提高的工作效率和良品率。

     

    隨著技術的發(fā)展,在觸摸屏ITO行業(yè)中的精度要求越來越高,集成化也越來越高端,傳統(tǒng)的刻線方式已漸漸無法滿足要求,而新型的激光刻蝕方式已逐漸成為主流,其精度在工業(yè)應用中已能達到15μm, ITO激光刻蝕機已成為行業(yè)中的主力軍。


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